人工ダイヤモンドの製造方法

CVD製法(化学気相成長法)

成膜したい材料を含む原料ガスを基板上に供給し、基板表面での化学反応により皮膜を形成する方法です。 化学反応のエネルギーの与え方により細分化され、熱を与えて分解・反応させる「熱CVD法」、プラズマのエネルギーで化学反応を促進する「プラズマCVD法」、光によって分解する「光CVD法」の3種類に大別されます。

HPHT製法(高温高圧法)

地球深部で天然ダイヤモンドができる高温高圧の環境を人工的に再現したもので す。 非常に高い温度(1500℃程度)と高い圧力(5–6GPa)を与えて、原料となる 炭素物質(グラファイトやダイヤモンド微粒)をダイヤモンドの結晶へと成長させ ます。HPHTダイヤモンドの成長は、非常に高い圧力を発生させることが可能とな る装置の内部にある小さなカプセルの中で行われます。

なぜMEMODIA JAPANは
CVD製法を採用しているのか

  • プラズマCVD法によって、より純度の高い結晶を実現できるため
  • カラーや透明度のばらつきが少なく、美しく均一な品質を安定的に生成できる
  • 成長過程を低圧環境で管理でき、安全性が高い製法であるため
  • 環境への負担を抑え、持続可能な製造が可能であるため